полимерный светочувствительный слой, нанесённый на поверхность полупроводниковой пластины с окисной плёнкой. Ф. используются в полупроводниковой электронике (См.
Полупроводниковая электроника) и микроэлектронике (См.
Микроэлектроника)
(см., например,
Планарная технология) для получения на пластине "окон" заданной конфигурации, открывающих доступ к ней травителя. В результате экспонирования Ф. через наложенный на него стеклянный шаблон нужного рисунка ультрафиолетовым излучением (иногда электронным лучом) свойства его меняются: либо растворимость Ф. резко уменьшается (негативный Ф.), либо он разрушается и становится легко удалимым (позитивный Ф.). Последующая обработка растворителем образует в Ф. "окна" на необлучённых участках негативного Ф. или облученных участках позитивного Ф. Типичные Ф.: негативные - слои поливинилового спирта с солями хромовых кислот (См.
Хромовые кислоты) или эфирами коричной кислоты (См.
Коричная кислота)
, слои циклизованного каучука с добавками, вызывающими "сшивание" макромолекул под действием света; позитивные - феноло- или крезолоформальдегидная смола с
о-нафтохинондиазидом. См. также
Фотолитография.